| 企業(yè)經(jīng)濟性質(zhì) | 國有企業(yè) | 法人代表或負責(zé)人 | 陳戰(zhàn) |
|---|---|---|---|
| 企業(yè)類型 | 生產(chǎn)加工 | 公司注冊地 | - |
| 注冊資金 | 人民幣 50 - 100 萬元 | 成立時間 | 1998年7月31日 |
| 員工人數(shù) | 51 - 100 人 | 月產(chǎn)量 | |
| 年營業(yè)額 | 人民幣 100 - 250 萬元 | 年出口額 | |
| 管理體系認證 | 主要經(jīng)營地點 | 全國 | |
| 主要客戶 | 主要市場 | 本公司借助于高校和科研機構(gòu)的強大研究實力,共同開發(fā)了LD 、LDMC系列輝光離子氮化爐和離子氮-碳共滲爐、離子滲碳爐和離子碳-氮共滲爐、離子滲硫和離子硫-氮共滲爐、多功能等離子化學(xué)熱處理爐和等離子滲金屬爐等多種高新等離子熱處理設(shè)備。并在材料表面處理成套工藝及設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和相關(guān)知識的培訓(xùn)推廣等一系列實際生產(chǎn)中進行了具有**性、新穎性、實用性的工作。目前已經(jīng)獲得的地區(qū)專利有:空心陰極制備鉬氧化物納米材料,專利號: ZL02110183.3;金屬與非金屬元素的等離子共滲,專利號:ZL01141329.8;射頻-直流多層輝光離子滲鍍設(shè)備及工藝 ,專利號:ZL02110182.5;輝光離子滲碳技術(shù)及設(shè)備 ,專利號:ZL02110184.1;雙陰極-高頻加強輝光放電離子滲鍍工藝及設(shè)備,專利號:ZL01108400.6等五項,申請待批的地區(qū)專利四項,是國內(nèi)本行業(yè)擁有自主知識產(chǎn)權(quán)較多的公司。 | |
| 廠房面積 | 是否提供OEM代加工 | 否 | |
| 開戶銀行 | 銀行帳號 | ||
| 公司商鋪 | http://kenzin204.cn.b2b168.com/ | ||
| 主營產(chǎn)品或服務(wù) | |||
| 所屬行業(yè) | > 武昌區(qū) | 所屬城市黃頁 | 武漢市 > 武昌區(qū) |